温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
通过等离子体处理装置中的导波管（２６）向处理室中导入微波，产生等离子体。通过反射监测器（４０）和功率监测器（４２）监测被在处理室内产生的等离子体反射的反射波的功率。此外，通过入射监测器（３６）和频率监测器（４８）监测由磁控管（２４）产生的微...该专利属于东京毅力科创株式会社;大见忠弘所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社;大见忠弘授权不得商用。
温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
通过等离子体处理装置中的导波管（２６）向处理室中导入微波，产生等离子体。通过反射监测器（４０）和功率监测器（４２）监测被在处理室内产生的等离子体反射的反射波的功率。此外，通过入射监测器（３６）和频率监测器（４８）监测由磁控管（２４）产生的微...