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等离子体处理室制造技术
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文档序号:3717966
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本发明提供一种不受容器内压力影响,可检测容器内微粒情况的等离子体处理室(10),其包括:腔室(11)、气体导入喷淋头(34)、向处理空间S施加高频电力的基座(12)、将腔室内的气体排出的排气装置、微粒计数器(45)、以及将腔室分隔成反应室(...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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