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本发明提供一种能够防止在处理室内部件的表面形成氧化膜的基板处理室的洗净方法。在上部电极板（３８）的表面附着有反应生成物的等离子体处理装置（１０）中，将晶片（Ｗ）从基板处理室（１１）搬出后，向处理空间（Ｓ）导入氧气，将处理空间（Ｓ）的压力设定...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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