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本发明提供了用于减小以等离子体方式沉积介质层时等离子体不稳定性的方法。在一种实施例中，该方法包括：在等离子体处理室中设置衬底；使气体混合物流入室中；向电极施加ＲＦ功率以在室中形成等离子体；并收集电极的ＤＣ偏压。在另一种实施例中，用于等离子体...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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