下载等离子体处理装置和方法的技术资料

文档序号:3717636

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本发明提供一种能够在电介质的整个下面均一地生成等离子体的等离子体处理装置和方法。其是一种使微波通过形成于导波管(35)的下面(31)的多个缝隙(70)在被配置在处理室(4)上面的电介质(32)中传播,利用在电介质表面所形成的电磁场中的电场能...
该专利属于东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学授权不得商用。

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