专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
东京毅力科创株式会社
>
光源装置、基板处理装置、基板处理方法制造方法及图纸
>技术资料下载
下载光源装置、基板处理装置、基板处理方法的技术资料
文档序号:3717563
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种光源装置,其特征在于,包括: 包含等离子体形成区域,在所述等离子体形成区域中,通过无电极放电形成等离子体而产生发光的等离子体形成室;和 划分在所述等离子体形成室中的等离子体形成区域的下端,透过所述发光的光学窗, 在所述等离子体形成室内,...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。