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本发明提供一种高精度地制造具有均匀的衍射光栅图案的凹面衍射光栅的技术。本公开的凹面衍射光栅的制造方法包括如下步骤：准备具有光栅槽、以及形成于成为凹面衍射光栅的模具的区域外的伸长部、薄膜部或低摩擦部的平面衍射光栅；将所述平面衍射光栅安装于凸面...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

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