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一种用于等离子体处理室的约束环包括下水平部分、竖直部分和上水平部分。所述下水平部分在所述约束环的内下半径和外半径之间延伸，并且包括在所述内下半径处竖直向下延伸的延伸部分。多个槽限定在所述下水平部分中，其中每个槽沿所述下水平部分由内径径向延伸...
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