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本发明公开了一种用于在处理系统中支撑衬底并控制其温度的衬底固定器。该衬底固定器包括：设置在第一区中用于升高第一区的温度的第一加热元件。设置在第二区中的第二加热元件配置用来升高第二区中的温度。此外，第一可控绝缘元件设置在第一加热元件下面，并配...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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