【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于衬底的温度控制的方法和系统，特别是用于衬底的温度控制的衬底固定器(substrate holder)。
技术介绍
在衬底处理如半导体或显示器制造等的各个阶段过程中，临界工艺参数可能显著地变化。随着临界工艺参数的最小变化，处理条件和它们的空间分布随着时间变化，导致不希望的结果。在处理气体的成分或压力、或者衬底温度以及其空间分布上很容易发生小变化。因此，衬底处理部件需要恒定地监控，和严格控制这些处理条件和它们的空间分布的能力。
技术实现思路
本申请介绍用于衬底的温度控制的方法和系统。用于衬底的温度控制的系统包括用于在处理系统中支撑衬底和控制其温度的衬底固定器。衬底固定器包括设置在衬底固定器的第一区中并构成为升高第一区的温度的第一加热元件；构成为升高周边区域的温度的第二加热元件；设置在第一区中的第一加热元件下面的第一可控绝缘元件；设置在第二区中的第二加热元件下面的第二可控绝缘元件；和设置在第一和第二可控绝缘元件下面的至少一个冷却元件，其中第一可控绝缘元件构成为控制热量从衬底经过衬底固定器的第一区传递到至少一个冷却元件，第二可控绝缘元件构成为控制热量...
【技术保护点】
一种用于在处理系统中支撑衬底并控制其温度的衬底固定器，包括：设置在所述衬底固定器的第一区中并配置用来升高所述第一区中的温度的第一加热元件；配置用来升高所述第二区中的温度的第二加热元件；设置在所述第一区中的所述第一加热 元件下面的第一可控绝缘元件；设置在所述第二区中的所述第二加热元件下面的第二可控绝缘元件；和设置在所述第一和第二可控绝缘元件下面的至少一个冷却元件，其中所述第一可控绝缘元件配置用来控制热量从所述衬底经过所述衬底固定器的 所述第一区到所述至少一个冷却元件的传递，所述第二可控...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：安德莱吉米特洛维克，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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