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本实用新型提供一种基板处理装置的气体注入器以及基板处理装置，所述基板处理装置包括：涡流形成部和气体排出部，其中，所述涡流形成部包括：气体流出通道，沿第一方向延伸，一端开口，另一端封闭；以及气体流入通道，在所述气体流出通道的靠近封闭的所述另一...
该专利属于盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司授权不得商用。

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