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本发明涉及一种半导体引线框架的选择性粗化设备及其粗化方法,粗化设备包括喷淋装置、上模板和下模板,上模板和下模板用于夹紧引线框架,下模板上设有镂空孔,用于露出引线框架的待粗化区,喷淋装置用于将粗化药水喷淋在引线框架的待粗化区。上模板和下模板夹...该专利属于崇辉半导体(江门)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过崇辉半导体(江门)有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种半导体引线框架的选择性粗化设备及其粗化方法,粗化设备包括喷淋装置、上模板和下模板,上模板和下模板用于夹紧引线框架,下模板上设有镂空孔,用于露出引线框架的待粗化区,喷淋装置用于将粗化药水喷淋在引线框架的待粗化区。上模板和下模板夹...