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本实用新型公开了一种原子层沉积设备的快速沉积腔室，属于原子层沉积技术领域，包括升降架，所述升降架顶端安装有下底板，所述下底板顶端活动安装有沉积腔体，所述沉积腔体顶端安装有上盖板，所述沉积腔体一端嵌入安装有真空抽气管，所述真空抽气管外表面一端...
该专利属于披刻半导体（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过披刻半导体（苏州）有限公司授权不得商用。

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