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本实用新型公开了一种用于超薄晶体薄膜生产的化学气相沉积设备，包括加热系统和反应系统，所述加热系统的外表面设置有存储盒，所述反应系统安装于加热系统的右侧，所述反应系统的右侧设置有支撑柱，且支撑柱的前方设置有固定杆，所述固定杆的右侧设置有滑槽二...
该专利属于江苏旭宇腾半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏旭宇腾半导体科技有限公司授权不得商用。

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