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本发明的基板处理装置以稳定而且有效地进行被处理基板的成膜处理为目的，基板处理装置把被处理基板Ｗ支撑在面对加热器部的位置，同时使保持被处理基板Ｗ的保持部件旋转。此外加热器部把ＳｉＣ加热器和热反射部件装在透明石英制的石英钟罩内部，通过使处理容器...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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