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本发明提供了一种闪存储存装置,包括衬底、和设置在所述衬底上的栅堆垛,所述衬底包括沟道区域、源区和漏区,所述沟道区域位于所述源区和所述漏区之间,所述栅堆垛设置在所述沟道区域上,所述栅堆垛由上至下依次为控制栅、阻挡氧化层、电荷俘获层和隧穿氧化层...该专利属于天津市滨海新区微电子研究院所有,仅供学习研究参考,未经过天津市滨海新区微电子研究院授权不得商用。
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本发明提供了一种闪存储存装置,包括衬底、和设置在所述衬底上的栅堆垛,所述衬底包括沟道区域、源区和漏区,所述沟道区域位于所述源区和所述漏区之间,所述栅堆垛设置在所述沟道区域上,所述栅堆垛由上至下依次为控制栅、阻挡氧化层、电荷俘获层和隧穿氧化层...