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本实用新型提供一种适用于立式成膜设备的发热装置，涉及半导体晶片制备技术领域，包括发热体、石墨电极和电连接件，发热体设置于反应室内的分隔套筒外侧的环形发热室内，在分隔套筒内形成气体流道，环形发热室与分隔套筒同轴嵌套设置，石墨电极的一端和发热体...
该专利属于宁波恒普真空科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波恒普真空科技股份有限公司授权不得商用。

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