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本发明公开了一种基于超声雾化制备二维晶体材料的MOCVD装置及方法，属于二维晶体材料制备领域，具体的MOCVD装置包括：反应室内设置有样品台和超声雾化喷头；第一雾化装置用于放置液态第一原材料，并用于将所述第一原材料直接雾化以产生第一原材料的...
该专利属于南京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京航空航天大学授权不得商用。

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