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本发明提供一种存储器元件，包括：基底；金属内连线结构，位于所述基底上；第一堆叠结构，位于所述金属内连线结构上，包括相互交替的多个第一导体层以及多个第一绝缘层以及嵌在所述多个第一导体层以及所述多个第一绝缘层中的绝缘结构；第二堆叠结构，位于所述...
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