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本发明提供一种IGBT器件及其制备方法，器件包括：衬底，衬底上形成有IGBT发射极、IGBT栅极和IGBT集电极；虚设栅极，设置于栅极和IGBT发射极之间；NMOS管，设置于IGBT栅极和虚设栅极之间，NMOS管的源极和栅极与IGBT栅极电...
该专利属于上海功成半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海功成半导体科技有限公司授权不得商用。

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