专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
西北工业大学
>
基底诱导化学气相沉积吸波SiC陶瓷的制备方法技术
>技术资料下载
下载基底诱导化学气相沉积吸波SiC陶瓷的制备方法的技术资料
文档序号:36708145
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种基底诱导化学气相沉积吸波SiC陶瓷的制备方法,以多孔莫来石为基底,沉积SiC陶瓷,制备具有层状结构的多孔莫来石/BN/SiC复相陶瓷。由于化学气相渗透(CVI)工艺制备的BN陶瓷晶化程度较低,热处理可改变其晶化程度和微结构,对...
该专利属于西北工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过西北工业大学授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。