下载基底诱导化学气相沉积吸波SiC陶瓷的制备方法的技术资料

文档序号:36708145

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本发明涉及一种基底诱导化学气相沉积吸波SiC陶瓷的制备方法,以多孔莫来石为基底,沉积SiC陶瓷,制备具有层状结构的多孔莫来石/BN/SiC复相陶瓷。由于化学气相渗透(CVI)工艺制备的BN陶瓷晶化程度较低,热处理可改变其晶化程度和微结构,对...
该专利属于西北工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过西北工业大学授权不得商用。

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