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一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质,光学邻近修正方法包括:提供设计图形,设计图形包括多个主图形,主图形具有直角拐角;对所述主图形进行光学邻近效应修正处理,获得修正后图形,所述光学邻近效应修正处理包括对所述直角拐角进行倒角处理...该专利属于中芯北方集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯北方集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。
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