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本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：处理槽，其用于将基板浸在含有硅酸化合物和磷酸的处理液中来对基板进行处理；液量传感器，其测定贮存于处理槽的处理液的贮存量；浓度传感器，其测定贮存于处理槽的处理液中的磷酸浓度；磷酸供给...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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