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衬底、图案形成装置和量测设备制造方法及图纸
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文档序号:36586206
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公开了一种用于确定用于曝光衬底上的至少一个结构的聚焦参数值的方法。所述方法包括:获得与所述至少一个结构的测量有关的测量数据,其中,所述至少一个结构包括每测量位置的单个周期性结构;以及将所述测量数据分解成包括所述测量数据的一个或更多个分量的分...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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