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本发明公开了一种非光敏胶图形化加工工艺，其工艺步骤为：S1、取出基板，在基板上涂覆一层非光敏胶达到设定的目标厚度；S2、在非光敏胶上层再涂覆一层光敏胶；S3、在光敏胶上覆盖上掩膜版，掩膜版为部分镂空设计，镂空的部分为图形化加工的产品图案；S...
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