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本发明公开一种半导体预清洗腔室及半导体工艺设备，所公开的半导体预清洗腔室用于半导体工艺设备中，去除晶圆表面的杂质，半导体预清洗腔室包括腔室本体、等离子体发生装置和承载座；腔室本体的内部形成有反应腔，等离子体发生装置用以将反应腔内通入的反应气...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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