温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开一种半导体工艺设备，其包括：工艺腔室；基座，设置于所述工艺腔室内，所述基座用于承载晶片，且所述基座为非导磁结构件；磁悬浮装置，被配置为向所述基座施加悬浮力，以使所述基座与所述工艺腔室间隔布置；加热装置，设置于所述工艺腔室内，所述加...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。