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本公开内容描述了一种气相沉积设备。气相沉积设备包括用于支撑待涂覆的基板的基板支撑件；具有多个喷嘴的蒸气源，用于通过蒸气传播空间将蒸气引导朝向基板支撑件；和从蒸气源向基板支撑件延伸的可加热屏蔽物。可加热屏蔽物至少部分地围绕蒸气传播空间，并且包...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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