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能够使用光学检验系统形成半导体晶片上的特征的至少三个暗场图像。所述至少三个暗场图像中的每一者来自使用在图像产生期间完全敞开的孔隙的所述光学检验系统的不同通道。所述暗场图像能够被融合到与对应设计对准的伪晶片图像中。这种对准能够改进关照区域放置...
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