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本实用新型公开了一种用于靶材加工的真空镀膜装置，包括底座，所述底座的两侧设有支撑架，两侧所述支撑架的顶部设有安装板，所述安装板的下方安装有上真空组件，位于所述上真空组件的下方设有与之相对应的下正空组件，所述下真空组件的底部设有转轴，所述转轴...
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