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等离子体处理装置、上部电极组件及其制造和再生方法制造方法及图纸
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下载等离子体处理装置、上部电极组件及其制造和再生方法的技术资料
文档序号:36447491
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本发明提供等离子体处理装置、等离子体处理装置中使用的上部电极组件及其制造方法和再生方法。等离子体处理装置包括:等离子体处理腔室;配置在等离子体处理腔室内的基片支承部;配置在基片支承部内的下部电极;导电性部件,其配置在基片支承部的上方,具有至...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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