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本发明涉及等离子清洗技术领域，提供一种等离子体产生装置及清洗设备，所述等离子体产生装置为内部中空结构，等离子体产生装置适于嵌套在待清洗工件外且与待清洗工件可拆卸式连接，以及，等离子体产生装置适于与待清洗工件合围形成真空室，真空室适于工作气体...
该专利属于哈尔滨工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过哈尔滨工业大学授权不得商用。

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