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本发明公开了一种版图设计的全流程优化方法、芯片及终端,属于半导体集成电路制造领域,建立数据库,数据库中存储有芯片尺寸参数、芯片需求量参数、晶圆尺寸参数以及最优值对照表;将基础参数与最优值对照表进行比对,确定至少一最优版图设计框值;根据最优版...该专利属于成都复锦功率半导体技术发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都复锦功率半导体技术发展有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种版图设计的全流程优化方法、芯片及终端,属于半导体集成电路制造领域,建立数据库,数据库中存储有芯片尺寸参数、芯片需求量参数、晶圆尺寸参数以及最优值对照表;将基础参数与最优值对照表进行比对,确定至少一最优版图设计框值;根据最优版...