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本发明涉及工艺配方搜索装置、蚀刻配方搜索方法以及半导体装置制造系统。在利用了机器学习的工艺配方开发中，为了使预测加工形状的评价容易，搜索作为被设定为将样品蚀刻成所期望的形状的等离子处理装置(100)的参数的蚀刻配方的工艺配方搜索装置(131...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

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