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可执行对半导体晶片图像的轮廓图像的检验，以便检测晶片边缘附近的脱层。为了估计参考图像，确定无缺陷轮廓边缘，并且从所述无缺陷轮廓边缘产生所述参考图像。从所述参考图像及所述轮廓图像确定差图像。在二值化之后，对所述差图像执行检验。所述差图像执行检...
该专利属于科磊股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科磊股份有限公司授权不得商用。

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