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本发明提供用于在外延腔室中处理半导体基板的方法和设备，所述方法和设备被构造成用以针对基板和内部腔室部件两者来映射温度分布。在一个实施方式中，半导体处理腔室具有主体，该主体具有界定内部空间的天花板和下部分。基板支撑件设置于该内部空间中。安装板...
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