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本发明提供了一种流体导流装置，包括：主体结构，其内侧壁从下至上依次设置有第一环形凹槽、第二环形凹槽和第三环形凹槽；形成于主体结构中的喷气组件，用于对晶圆的侧面喷射气体以隔断晶圆上下两侧清洗液的相互渗入；形成于主体结构中的吸气组件，用于在第一...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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