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本发明提供能够缩短处理液的更换所需时间的基片处理装置和液更换方法。本发明的一个方式的基片处理装置包括：利用以第一混合比包含药液和替换液的处理液对基片实施液处理的处理槽；使从上述处理槽内取出的上述处理液返回至上述处理槽内的循环流路；向上述处理...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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