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本发明的目的在于稳定且高效提供具有高有机修饰率的氮化硼粒子。本发明的连续制备方法包括接触工序：连续供给经预处理的氮化硼和有机修饰剂，与处于亚临界状态的水系材料在酸或碱的共存下连续接触。预处理包括选自下述处理的任一种以上，即：对氮化硼加酸；对...
该专利属于株式会社超级纳米设计所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社超级纳米设计授权不得商用。

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