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本发明的实施例提供了一种真空装置，包括：处理室；传送室，连接至处理室，其中：传送室包括：一个或多个真空端口，自顶向下看，位于传送室内部且邻近传送室的侧壁设置，并且传送室内部的气体通过真空端口排出；和通气端口，自顶向下看，位于传送室内部且邻近...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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