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晶圆托盘、气相沉积设备及薄膜制备方法技术
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文档序号:35816809
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本发明提供了晶圆托盘、气相沉积设备及薄膜制备方法。所述晶圆托盘包括至少一个放置晶圆的开口及多个顶针。所述开口的边缘设置有顶针限位槽及多个安装孔。所述多个顶针可拆卸地安装于所述多个安装孔。所述顶针的侧面设有承载台。所述承载台的下部连接所述顶针...
该专利属于拓荆科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拓荆科技股份有限公司授权不得商用。
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