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本发明涉及光刻技术领域，提供了一种气浴发生器及光刻设备，其中气浴发生器包括环体结构和出风口加强结构，环体结构设有豁口，环体结构在豁口处形成相对设置的两端；出风口加强结构设于两端，出风口加强结构包括第二出气口；环体结构用于围绕工作区域设置，且...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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