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包括具有气隙的坝结构的半导体器件和包括其的电子系统技术方案
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下载包括具有气隙的坝结构的半导体器件和包括其的电子系统的技术资料
文档序号:35729961
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一种半导体器件和包括其的电子系统,该半导体器件包括外围电路结构、半导体层、源极导电层、连接模层、支撑导电层、掩埋绝缘层、栅极堆叠结构、模结构、穿过栅极堆叠结构的沟道结构和支撑物层、穿过模结构和掩埋绝缘层的通孔通路、在栅极堆叠结构和模结构之间...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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