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本发明公开一种用于OLED像素沉积的金属掩膜版及加工方法，晶面（111）、晶面（200）、晶面（220）和晶面（311）的衍射峰强度分别定义为I（111）、I（200）、I（220）和I（311）；A=Ｉ(200)／｛Ｉ(111)+Ｉ(20...
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