温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开提供了一种图案制备方法、电子器件和三维存储器，涉及集成电路的制造领域，旨在解决形成图案的方法对制备工艺要求高的问题。图案制备方法包括：在目标刻蚀层上形成沿第一方向排列的多个芯模图案。形成覆盖多个芯模图案的第一材料层，刻蚀第一材料层以形...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。