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提供了一种用于在等离子体处理室中处理一个或多个衬底的方法。提供了多个循环，其中每个循环包括提供预涂层工艺、处理在等离子体处理室内的至少一个衬底、以及清洁等离子体处理室。提供预涂层工艺包括沉积含硅预涂层和沉积含碳预涂层的一个或多个循环。积含碳...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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