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一种高压JFET器件及其制备方法技术
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文档序号:35215581
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本发明公开了高压JFET器件,包括在衬底上形成第一阱区、第二阱区和第三阱区,在第二阱区、第三阱区内形成第一分压环、第二分压环和第三分压环,场氧化层包括第一部分、第二部分和第三部分,第一部分连接第一分压环,第二部分和第三部分连接第二分压环,第...
该专利属于东莞市金誉半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东莞市金誉半导体有限公司授权不得商用。
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