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本申请提供了一种电容器及其制备方法，该方法包括：提供具有多个第一凹槽的衬底；在衬底上依次形成第一绝缘层和电容器极板层，其中，位于第一凹槽内的第一绝缘层覆盖第一凹槽的底面及侧壁，且第一凹槽内形成有第二凹槽，电容器极板层的厚度大于第二凹槽的高度...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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