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本实用新型提供了一种半导体加热器，其特征在于，包括：导向部和吹扫部，所述吹扫部通过出气口与镀膜反应室连通，所述吹扫部内流通有保护气体，所述保护气体通过出气口进入镀膜反应室，并在导向部暴露于镀膜反应室内的表面形成气体帘。在导向部表面形成的气体...
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