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本发明是一种表面氧化方法，包括以下步骤：S1、将产品表面进行粗清理，将粗清理后产品吹干；S2、将粗清理后产品放置入真空腔中，真空腔中设置有隔离板，隔离板将真空腔分为溅射腔室与氧化腔室，对真空腔进行抽真空，真空腔中真空度范围为5pa
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该专利属于东莞市峰谷纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞市峰谷纳米科技有限公司授权不得商用。

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